Jest nam miło poinformować, że system do nanoszenia cienkich warstw i nanocząstek został rozbudowany o nowe źródło magnetronowe, które umożliwia nanoszenie cienkich warstw metali i związków metali o kontrolowanym składzie chemicznym i grubości.NPs deposition

Nowy magnetron nieco różni się od dostępnych do tej pory magnetronów, zaopatrzony jest bowiem w silniejszy magnes, który umożliwia łatwiejsze nanoszenie warstw magnetycznych. Dodatkowo istnieje możliwość zmieniania kąta pochyłu źródła magnetronowego. Magnetron zasilany jest źródłem RF. Przypominamy, że w komorze procesowej możliwa jest kontrola temperatury podłoża (25–800°C), regulacja napięcia polaryzacji podłoża (0–600 V) i przepływu gazów (Ar, N2, O2) oraz regulacja prędkości obrotu uchwytu z podłożem (0–20 rpm). Pomiar szybkości nanoszenia warstw umożliwia waga kwarcowa. Próbki nanoszone są na podłoża o średnicy 2 cali, jak również mniejsze o nieregularnym kształcie. Serdecznie zapraszamy do współpracy!